光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。接下来， 详细为你说下光刻机和芯片有什么关系 光刻机和芯片哪个更难

1.光刻机和芯片有什么关系

光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。

光刻机是光刻技术的载体，而光刻技术是芯片技术的重要部分，光刻机的原理就是用光把图案投射到硅片上。如果想要自主生产芯片，光刻机是必要的，就像工业中的机床一样。

光刻机与芯片存在着密不可分的关系。芯片与光刻机的关系，就好比是鱼和水。没了光刻机，再高端的芯片技术也只能停留在理想层面。目前，世界最高端的光刻机来自荷兰，相信不久之后中国也能拥有独立自主的光刻机技术。

2.光刻机和芯片哪个更难

都很难的。因为芯片从设计到生产制造都是一个复杂工艺，目前国内，芯片设计软件和生产核心光刻机都是国外的。不过光刻机难度最大，因为再好的设计也需要做出来才能算成功，而且还要保持良品率。

以我们掌握程度为难易判断标准，我们掌握了就不算难，没掌握的就算难。

芯片设计，手机通信我们有华为，中兴，展锐等。通用桌面服务器有龙芯，华为，申威等。我们已经具有完整的正向设计能力，部分芯片设计已经接近顶尖水平，差距一代不到。

芯片制造，中芯国际量产14纳米，有望突破7纳米。华虹半导体也已经初步量产14纳米。跟最先进的台积电和三星半导体比还有很大的差距，差距一代多。

光刻机，我们可以完全自主量产90纳米光刻机。现在最先进的极紫外光刻机只有荷兰ASML能够供货，我们跟ASML差了三代。根据公开信息，我们28纳米光刻机关键部件已经全部完成攻关，今年底有望出整机样机，两年内量产。28纳米现在世界上有两个国家量产，荷兰和日本。我们今年如果能够踏入这个阵营，差距缩小到一代。

综合起来，光刻机差距现在最大，是最难的。但不管什么技术，只要持续不断的投入，不被眼前的困难吓倒，培养人才梯队，追赶和超越是迟早的。